製品情報|カテゴリー詳細
産業向けチラー|温水循環装置
+40℃〜+80℃の温度域で、±0.5℃以下の高精度な加熱温度コントロールが可能です。
成形機、半導体製造装置への温水循環、装置開発における正確な熱負荷源として。
ヒーター出力やポンプ能力など、ご要望に応じて各種カスタマイズいたします。
+40℃〜+80℃の温度域で、±0.5℃以下の高精度な加熱温度コントロールが可能です。
成形機、半導体製造装置への温水循環、装置開発における正確な熱負荷源として。
ヒーター出力やポンプ能力など、ご要望に応じて各種カスタマイズいたします。